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  2. 時代高科---真空干燥?整廠輸送與倉儲系統(tǒng)提供商

    節(jié)流的高真空系統(tǒng)

    濺射和其它等離子體工藝所包含的壓強(qiáng)范圍均高于各類高真空泵的工作壓強(qiáng)范圍。在泵與真空室之間加一個節(jié)流閥就可將這些泵用在0.5至10Pa的范圍內(nèi)。這種具有小流導(dǎo)的節(jié)流閥,允許使高壓強(qiáng)真空室的氣體流入泵中,同時使泵的進(jìn)氣口壓強(qiáng)保持在泵的最高壓強(qiáng)或臨界進(jìn)氣口壓強(qiáng)以下,陰極直徑為150到200mm的典型濺射室的直徑為5OOmm,高為250mm。傳統(tǒng)的抽氣機(jī)組配用一臺6in的擴(kuò)散泵,但也有使用與之相當(dāng)?shù)牡蜏乇没驕u輪分子泵的,這樣大小的泵的最大排氣量為100至200Pa·L/s。泵更大,雖然價格更貴,但排除氣體的速率也更快。

    濺射系統(tǒng)的殘余氣體的問題要比高真空蒸發(fā)系統(tǒng)的大得多,這一方面由于增加了壁上雜質(zhì)的等離子體解吸,另一方面由于通常的濺射淀積率要比典型蒸發(fā)率低得多。即使這兩種過程的產(chǎn)生率處于同一數(shù)量級,濺射薄膜的暴露在殘余氣體雜質(zhì)中的機(jī)會也比由蒸發(fā)源凝結(jié)的薄膜的為多。電子和離子碰撞解吸是讓氣體從真空室室壁上釋放出來的有效方法,它甚至要比輕度烘烤更為有效。在等離子體中,解吸的氣體似以原子態(tài)存在,這樣它們很容易會同濺射薄膜起反應(yīng)。


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